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仪器分类:
享受政策:
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发布时间:
所在地:天津
服务承诺:
客户至上 如实描述
产品详情
服务评价
成交记录
仪器信息
规格型号 :
PlasmaPro 100 PECVD
设备原值 :
250(万元)
产地国别 :
英国
学科领域 :
技术指标 :
详见下图
主要功能 :
用于SiO和SiN的均匀沉积,设备具有稳定性好、重复性高、兼容性好的特点。设备最大支持6英寸片。沉积薄膜均匀性优于2%,重复性优于3%。薄膜应力小,耐湿法腐蚀,具有很高的成膜质量。
服务信息
服务内容 :
广泛应用于半导体材料及薄膜的微纳米结构加工与相关研究等。
收费标准 :
用户须知 :
无
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