| 型号： | R95 | 仪器分类： | 其他仪器 |
| 原值（单位：万元）： | 97.85 | 产地国别： | 中国 |
| 年平均开机机时： | 1200 | 主要技术指标： | 1. 极限真空：8×10-6Pa（经过烘烤后）；2. 工作真空：40分钟可达到6x10-4Pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)；3. 系统保压：系统停泵关机12小时后，系统真空度≤3Pa；4. 基片尺寸：100x100mm；5. 样品架与靶表面距离：50~120mm（手动调控）；6. 基片加热温度：室温~300℃。温度可以PID自动控制，可控可调。达到需要加热的温度后，温度控制精度优于+/-1度； |
| 主要功能： | 共溅射室由六个磁控靶构成，可实现单靶直溅，双靶共溅，多靶共溅。六个磁控靶当中有一个为强磁性靶，可溅射铁磁性材料（Fe，Co，Ni等）。 | 应用范围： | 该系统主要用于在材料表面制备各种金属薄膜、化合物薄膜、绝缘膜、介质膜、半导体膜等。 |
| 服务领域： | 材料、其他 |
共溅射室由六个磁控靶构成，可实现单靶直溅，双靶共溅，多靶共溅。六个磁控靶当中有一个为强磁性靶，可溅射铁磁性材料（Fe，Co，Ni等）。
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刘建勇
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